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指挥部临时搭建的板房会议室里，灯火通明。
这里没有豪华的装修，只有一张掉漆的长条桌，几把吱呀作响的摺叠椅。
桌上，两杯热气腾腾的白开水，旁边是堆得像小山一样的技术资料。
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李昂和锺元年，就这麽相对而坐。
一个年轻的市长，一个白发的泰斗。
这场注定要载入江州史册的彻夜长谈。
就在这简陋到近乎寒酸的环境里，开始了。
「说说材料吧。」
锺元年率先开口，打破了沉默。
他没有问那些宏观的战略，而是直插心脏，从整个半导体产业最基础的根基问起。
李昂点了点头，身体微微后仰，靠在椅背上。
「磷化铟丶氮化镓丶碳化矽。」
他没有丝毫的停顿，直接报出了三个名字。
「这三种化合物半导体材料，国内都有实验室在做，但都没得到真正的重视。」
「所有人都觉得，这是旁门左道，远不如矽基晶片前景广阔。」
锺元年苍老的眼皮动了动，没有说话，示意他继续。
「但他们没看到，在高频丶高温丶高功率的应用场景下，这三种材料的物理性能，是矽望尘莫及的。」
「B计划的第一步，不是要去追赶别人已经成熟的赛道。」
「而是要开辟一个全新的，我们能掌握主动权的战场。」
李昂的声音很平稳，就像在陈述一个既定的事实。
锺元年端起水杯，喝了一口，滚烫的开水仿佛没能给他带来任何感觉。
他只是默默地听着，那张布满皱纹的脸上，看不出任何情绪。
李昂话锋一转。
「再说说等离子物理。」
他站起身，走到墙边挂着的一块白板前，拿起一支记号笔。
「国内现有的ICP刻蚀机，最大的问题是等离子体均匀性不够，导致良品率上不去。」
「核心原因，在于反应腔的结构设计，沿用的是二十年前的老路子。」
他说着，笔尖在白板上飞快地移动。
几条简单的曲线，几个关键的参数标注，一个全新的反应腔结构示意图，跃然板上。
「增加一个亥姆霍兹线圈，改变射频电源的耦合方式，再优化一下气路喷淋头的设计。」
「这样，就能在腔体内形成一个更稳定丶更均匀的磁约束场。」
「刻蚀的精度和速度，至少能提升百分之三十。」
李昂放下笔，转过身。
会议室里，一片死寂。
锺元年身边，那个一直安静站着的年轻秘书，此刻张大了嘴巴，满脸的不可思议。
而不知何时，听到动静悄悄站在门口的钱总工和几位核心专家，更是感觉自己的头皮都在发麻。
因为李昂画出的那个结构图，那个改进方案……
恰好解决了锺元年团队在二十年前，一个悬而未决的技术难题！
那个难题，耗费了他们整整三年的心血，最后只能无奈放弃！
锺元年的呼吸，变得有些急促。
他撑着桌子，缓缓站了起来，一步一步走到白板前。
他伸出乾枯的手，指尖颤抖地抚过那几条看似简单的曲线。
那不是图纸。
那是一个困扰了他半生的心魔！
他猛地回头，死死地盯着李昂。
「这个方案，你是怎麽想到的？」
李昂的回答，平静得近乎冷酷。
「我没想，它本该就是这样。」
这句话，像一把重锤，狠狠砸在锺元年的心上。
他本该就是这样……
是啊，他们当年为什麽就没能再往前多走一步？
锺元年没有再问下去。
他知道，再问，就是自取其辱了。
他回到了自己的座位上，沉默了许久。
整个会议室里的空气，都仿佛凝固了。
当锺元年再次抬起头时，他看着李昂的眼神，已经彻底变了。
如果说之前是审视和考量。
那麽现在，就是纯粹的，面对未知领域的敬畏。
「光刻机呢？」
他沙哑地问出了最后一个，也是最核心的问题。
所有人的心，都提到了嗓子眼。
李昂没有直接回答。
他回到桌前，从那堆资料里，抽出了一份最厚的文件，翻开。
「我们不碰EUV。」
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