前世，EUV LLC联盟的几百位顶尖科学家在一起联合研发了6年多，发表了几百篇科研论文，从理论上验证了EUV光刻机是可行的，目的达到，解散了EUV LLC联盟，接下来的实际问题都抛给了ASML，面对如此高深的技术，ASML是选择做还是不做？
ASML一家之力不可能完成研制成功EUV光刻机这项宏伟工程，不得不拿出公司近三成的股权，向下游光刻机重要客户Intel、台积电和三星电子融资了60多亿美元！
据说为了研发EUV光刻机，ASML前前后后在将近20年时间内投入上百亿美元的研发费用。
GCA和Nikon占据光刻机的高端市场，技术水平不分仲伯，但由于高端光刻机用户Intel、IBM、IT、ADM、HP同GCA既是Sematech会员，又是GCA的股东，采用一致对外的策略，GCA的高端光刻机是首选，GCA如今占据全球高端市场份额的近7成，NiKon占3成多。
在技术水平相同的情况下，市场起决定因素。
根据光刻机技术和市场占有率，GCA如今成为名副其实的全球老大，Nikon屈居第二。
Nikon想从GCA的手里抢回Intel、IBM、IT、ADM、HP的高端光刻机订单，只能率先攻克193nm波长的世界性难题，第一个研发成功65nm制程工艺的光刻机才有可能。
在Nikon技术领先的情况下，Intel、IBM、IT、ADM、HP就会以公司的利益为重。
ASML的工程师琼斯带领20多人的研发部门经过3年多时间的研发，于1996年9月，研发成功全球第二款具有自主知识产权的光刻机双工作平台系统，但为时已晚，ASML和其他光刻机公司都购买了BSEC的专利技术，自己生产光刻机双工作平台系统，BSEC负责升级；除了GCA，其他公司生产一台光刻机需要缴纳相当于每台光刻机售价1%的专利使用费。
GCA如今已经升级配套90nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统技术，遥遥领先于ASML的技术，按照专利技术转让协定，BSEC交给了Nikon、ASML、Canon和SVG。
全球光刻机用户已经习惯使用BSEC磁悬浮式双工作台系统技术，ASML在中高端光刻机上还是使用BSEC的，在低端光刻机上使用自研的。